据Elec报道，ASML最近在2022年半导体EUV生态系统全球大会上指出，ASML生产的EUV设备数量已从2019年的22台增加到2021年的42台预计今年将超过50家，明年生产单位数量将进一步增加高NA EUV设备的初始版本将于明年年底推出，量产车型将于2024年底或2025年初推出
在10月19日的第三季度财报中，ASML表示:在EUV高NA业务中，ASML获得了TWINSCAN EXE的额外订单:5200，目前，所有EUV客户都提交了高NA订单高NA EUV设备是一种将聚光透镜的数值孔径从0.33提高到0.55的设备与现有的EUV设备相比，它可以处理更精细的半导体电路大多数业内人士认为，高NA设备对2nm工艺至关重要
据etnews报道，三星电子和SK海力士向光刻机巨头ASML订购了下一代半导体设备高NA极紫外曝光设备继TSMC和英特尔之后，韩国半导体制造商也准备推出能够实现2纳米工艺的器件对最先进技术的竞争预计会加剧
本站了解到，高NA EUV设备比目前使用的EUV设备更昂贵，但可以一次性实现超精细技术，可以大大提高生产率就三星电子而言，需要保证高NA EUV设备在3nm量产后用于2nm量产现有的EUV装备预计耗资2000亿韩元至3000亿韩元，而高NA EUV装备预计耗资5000亿韩元
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