国产EDA新突破，东方晶源推出计算光刻云方案

据东方晶源发布，最近几天，东方晶源微电子技术有限公司发布了首个基于云的EDA计算光刻平台——aero hpo全流程协同优化系统，成为国内EDA和集成良率解决方案的云部署者。

该系统遵循东方晶源自主研发的全芯片反向光刻掩膜优化技术，这是全球首例工程应用同时，依托公共云平台，系统可以为客户提供以下技术:工艺建模，基于ILT的掩模优化，设计规则和掩模规则检查，光源掩模联合优化，严格物理光刻模拟，DPT版图拆分和光刻性能检查

AeroHPO是对现有基于东方晶源私有计算集群的计算光刻解决方案的补充该系统在易用性和灵活的收费方式方面具有明显的优势可以为高校和科研院所提供便捷的EDA和计算光刻的教学和科研平台，也可以为中小型芯片设计制造企业提供更加经济灵活的解决方案

东方晶元的AeroHPO协同优化系统不仅解决了掩膜优化设计的问题，还具备上游EDA工具和下游缺陷分析及良率控制系统的可扩展性和兼容性，提供了从芯片设计到制造的DTCO集成平台。

截至目前，该系统已在北京超级云，华为云，腾讯云等合作伙伴上测试。